Integrated tool for the spreading, thermal treatment and in situ process monitoring of thick photoresist films

dc.contributor.author	Γουστουρίδης, Δημήτριος	el
dc.contributor.author	Ράπτης, Ιωάννης Α.	el
dc.contributor.author	Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ.	el
dc.contributor.author	Χατζηχρηστίδη, Μαργαρίτα	el
dc.date.accessioned	2015-06-23T10:14:46Z
dc.date.issued	2015-06-23
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11400/17752
dc.rights	Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/	*
dc.source	http://www.elsevier.com	el
dc.title	Integrated tool for the spreading, thermal treatment and in situ process monitoring of thick photoresist films	el
heal.type	journalArticle
heal.classification	Technology
heal.classification	Electrical engineering
heal.classification	Τεχνολογία
heal.classification	Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.classificationURI	http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85133147
heal.classificationURI	http://zbw.eu/stw/descriptor/18426-4
heal.classificationURI	N/A-Τεχνολογία
heal.classificationURI	N/A-Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.dateAvailable	10000-01-01
heal.access	forever
heal.journalName	Microelectronic Engineering	el
heal.journalType	peer-reviewed
heal.fullTextAvailability	false

Files in this item

Files	Size	Format	View
There are no files associated with this item.

The following license files are associated with this item:

Except where otherwise noted, this item's license is described as Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες