Back-scattering and x-ray-induced correction factors for AES of thin overlayers

dc.contributor.author	Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ.	el
dc.contributor.author	Νασιοπούλου, Ανδρούλα Γ.	el
dc.contributor.author	Γλέζος, Νίκος Μ.	el
dc.date.accessioned	2015-06-23T10:42:13Z
dc.date.issued	2015-06-23
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11400/17766
dc.rights	Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/	*
dc.source	http://eu.wiley.com/	el
dc.title	Back-scattering and x-ray-induced correction factors for AES of thin overlayers	el
heal.type	journalArticle
heal.secondaryTitle	influence on lateral resolution	el
heal.classification	Technology
heal.classification	Electrical engineering
heal.classification	Τεχνολογία
heal.classification	Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.classificationURI	http://id.loc.gov/authorities/subjects/sh85133147
heal.classificationURI	http://zbw.eu/stw/descriptor/18426-4
heal.classificationURI	N/A-Τεχνολογία
heal.classificationURI	N/A-Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.dateAvailable	10000-01-01
heal.access	forever
heal.journalName	Surface and Interface Analysis	el
heal.journalType	peer-reviewed
heal.fullTextAvailability	false