Planar CMOS compatible process for the fabrication of buried microchannels in silicon, using porous-silicon technology

dc.contributor.author	Καλτσάς, Γρηγόριος	el
dc.contributor.author	Παγώνης, Δημήτριος-Νικόλαος	el
dc.contributor.author	Νασιοπούλου, Ανδρούλα Γ.	el
dc.date.accessioned	2015-06-24T22:23:37Z
dc.date.issued	2015-06-25
dc.identifier.uri	http://hdl.handle.net/11400/18351
dc.rights	Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες	*
dc.rights.uri	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/3.0/us/	*
dc.source	http://ieeexplore.ieee.org/	el
dc.title	Planar CMOS compatible process for the fabrication of buried microchannels in silicon, using porous-silicon technology	el
heal.type	journalArticle
heal.classification	Technology
heal.classification	Electrical engineering
heal.classification	Τεχνολογία
heal.classification	Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.classificationURI	N/A-Technology
heal.classificationURI	N/A-Electrical engineering
heal.classificationURI	N/A-Τεχνολογία
heal.classificationURI	N/A-Ηλεκτρολογία Μηχανολογία
heal.dateAvailable	10000-01-01
heal.access	forever
heal.journalName	Journal of Microelectromechanical Systems	el
heal.journalType	peer-reviewed
heal.fullTextAvailability	false