Realization and simulation of high aspect ratio micro/nano structures by proton beam writing

Χατζηχρηστίδη, Μαργαρίτα; Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ.; Ράπτης, Ιωάννης Α.; Van Kan, Jeroen Anton; Watt, Frank R.
URI: http://hdl.handle.net/11400/10623
Ημερομηνία Δημοσίευσης: 2007
Τύπος Τεκμηρίου: Δημοσίευση σε συνέδριο
Όνομα Συνεδρίου: 20th International Microprocesses and Nanotechnology Conference, MNC 2007
In this paper, proton beam writing is combined with an aqueous developable-easily stripped negative chemically amplified resist (TADEP: thick aqueous developable epoxy resist) for the realization of high aspect ratio structures. Monte Carlo method is used to simulate PBW in thick resist films. Result shows that resist structures with 280 nm linewidth and aspect ratio of 40 were easily resolved.
Πηγή: http://ieeexplore.ieee.org/
Θέμα: Technology, Electrical engineering, Τεχνολογία, Ηλεκτρολογία Μηχανολογία

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Αρχεία Μέγεθος Μορφότυπο Προβολή

Δεν υπάρχουν αρχεία που σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο.

Οι παρακάτω άδειες σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο:

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)

Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες Εκτός από όπου ορίζεται κάτι διαφορετικό, αυτή η άδεια περιγράφεται ως Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες