Characterization and simulation of surface and line-edge roughness in photoresists

Κωνσταντούδης, Βασίλειος; Γογγολίδης, Ευάγγελος; Πάτσης, Γεώργιος Π.; Τσερέπη, Αγγελική Δ.; Βαλαμόντες, Ευάγγελος Σ.
URI: http://hdl.handle.net/11400/10723
Ημερομηνία Δημοσίευσης: 2001-11
Τύπος Τεκμηρίου: Δημοσίευση σε περιοδικό
Όνομα Περιοδικού: Journal of Vacuum Science and Technology B
An overview is given on the problem of roughness in photoresists. Focus is on the inspection of three relevant aspects: quantitative characterization, dependence on some material properties and process conditions, and molecular simulations.
Πηγή: http://www.aip.org/
Θέμα: Technology, Electrical engineering, Τεχνολογία, Ηλεκτρολογία Μηχανολογία

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Οι παρακάτω άδειες σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο:

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)

Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες Εκτός από όπου ορίζεται κάτι διαφορετικό, αυτή η άδεια περιγράφεται ως Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες