Surface and line-edge roughness in solution and plasma developed negative tone resists

Πάτσης, Γεώργιος Π.; Τσερέπη, Αγγελική Δ.; Ράπτης, Ιωάννης Α.; Γλέζος, Νίκος Μ.; Γογγολίδης, Ευάγγελος
URI: http://hdl.handle.net/11400/10727
Ημερομηνία Δημοσίευσης: 2000-11
Τύπος Τεκμηρίου: Δημοσίευση σε περιοδικό
Όνομα Περιοδικού: Journal of Vacuum Science and Technology B
A framework for the study of surface roughness and line-edge roughness was presented. Experimental results from siloxane resists showed that such systems had the potential of very low surface roughness. A description of surface roughness and line-edge roughness simulation was also given. It was possible to simulate the change of roughness with dose, development time, acid diffusion length, PAG concentration, and polymer structure.
Πηγή: http://www.aip.org/
Θέμα: Technology, Electrical engineering, Τεχνολογία, Ηλεκτρολογία Μηχανολογία

Εμφάνιση πλήρους εγγραφής

Αρχεία σε αυτό το τεκμήριο

Οι παρακάτω άδειες σχετίζονται με αυτό το τεκμήριο:

Αυτό το τεκμήριο εμφανίζεται στην ακόλουθη συλλογή(ές)

Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες Εκτός από όπου ορίζεται κάτι διαφορετικό, αυτή η άδεια περιγράφεται ως Αναφορά Δημιουργού-Μη Εμπορική Χρήση-Όχι Παράγωγα Έργα 3.0 Ηνωμένες Πολιτείες